La Roche Posay Wundpflegebalsam Cicaplast Baume B5 LSF 50+ 40ml

La Roche-Posay Cicaplast Baume B5 LSF 50Multi-Repair-Balsam für UV-exponierte Haut
Beruhigt, regeneriert und pflegt irritierte Haut dank 5% Panthenol und Madecassoside. Beugt der Entstehung roter und brauner Pigmentmale vor und schützt Tattoos.

Anwendungshinweise

Kann mehrmals pro Tag auf die gereinigte, getrocknete Haut aufgetragen werden. Für Gesicht und Körper geeignet. Nicht auf offene Wunden auftragen.

Zusammensetzung

Aqua/Water, Homosalate, Panthenol, Ethylhexyl Salicylate, Butyl Methoxydibenzoylmethane, Octocrylene, Alcohol Denat., Bis-Ethylhexyloxyphenol Methoxyphenyl Triazine, Styrene/Acrylates Copolymer, Ethylhexyl Triazone, Triethanolamine, Dimethicone, Phenylbenzimidazole Sulfonic Acid, PEG-8 Laurate, Sorbitan Oleate, Zinc Gluconate, Madecassoside, Manganese Gluconate, Isohexadecane, Sodium Acrylates Crosspolymer-2, Silica, 2-Oleamido-1,3-Octadecanediol, Perlite, Drometrizole Trisiloxane, Poloxamer 338, Disodium EDTA, Copper Gluconate, Caprylyl Glycol, Polysorbate 80, Acrylamide/Sodium Acryloyldimethyltaurate Copolymer, Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, BHT, Tocopherol, Phenoxyethanol.

Eigenschaften

Bei irritierten, UV-exponierten Hautstellen. Geeignet für tätowierte Haut. Cicaplast Baume B5 LSF 50 kombiniert UV-Schutz mit Multi-Repair-Pflege auch bei tätowierter Haut:

• Madecassoside unterstützt die optimale Regeneration der Haut.
• Der Wirkstoffkomplex aus Kupfer-Zink-Mangan regt die Bildung neuer Hautzellen an und wirkt anti-bakteriell.
• 5% Panthenol beruhigt die strapazierte Haut, unterstützt die Zellregeneration und stärkt die Widerstandsfähigkeit der Haut.

Cicaplast Baume B5 LSF 50 schützt außerdem zweifach vor Pigmentflecken:

• Von außen schützt der hohe Lichtschutzfaktor 50 vor schädlicher UV-Strahlung.
• Von innen reguliert der patentierte Wirkstoff Procerad die Melanin-Produktion und beugt einer Hyperpigmentierung vor.

Ohne weiße Spuren, fettet und klebt nicht. An empfindlicher und tätowierter Haut getestet.